заявка
№ RU 95104020
МПК H05B7/18

ВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ ИНДУКЦИОННЫЙ ПЛАЗМОТРОН

Авторы:
Мазин В.И.
Номер заявки
95104020/07
Дата подачи заявки
21.03.1995
Опубликовано
20.02.1997
Страна
RU
Как управлять
интеллектуальной собственностью
Реферат

[1]

Изобретение относится к электротехнике. Целью изобретения является увеличение срока службы плазмотрона. Плазмотрон содержит цилиндрическую разрядную камеру, выполненную в виде продольных водоохлаждаемых профилированных секций, размещенных в диэлектрическом кожухе, и охватывающий кожух индуктор. Внутри разрядной камеры в ее торцевой части установлены узлы ввода основного и термозащитного газов. Узел ввода термозащитного газа выполнен в виде продольных профилированных металлических трубок, плотно прилегающих к секциям разрядной камеры, а узел ввода основного газа снабжен диафрагмой, образующей кольцевой зазор с продольными профилированными металлическими трубками. Диаметр отверстия диафрагмы выбран равным 0,15 - 0,30 внутреннего диаметра разрядной камеры, а высота кольцевого зазора выполнена меньше высоты зазора для прохода газа продольных профилированных металлических трубок.

Формула изобретения

1. Высокочастотный индукционный плазмотрон, содержащий цилиндрическую разрядную камеру, выполненную в виде продольных водоохлаждаемых профилированных секций, размещенных в защитном диэлектрическом кожухе, охватывающий кожух индуктор, установленные внутри разрядной камере в ее торцевой части узлы ввода основного и термозащитного газов, причем узел ввода термозащитного газа выполнен в виде продольных профилированных металлических трубок, плотно прилегающих к секциям камеры, отличающийся тем, что с целью увеличения срока службы плазмотрона узел ввода основного газа со стороны индуктора снабжен диафрагмой, образующей кольцевой зазор с продольными профилированными металлическими трубками узла ввода термозащитного газа.

2. Высокочастотный индукционный плазмотрон по п. 1, отличающийся тем, что диаметр отверстия диафрагмы выбран равным 0,15 - 0,30 внутреннего диаметра разрядной камеры, а высота кольцевого зазора между диафрагмой и поверхностью продольных профилированных металлических трубок выполнена меньше высоты зазора для прохода газа последних.

Как компенсировать расходы
на инновационную разработку
Похожие патенты