CVD-реактор WT-1000

В основе работы реактора ARDIS-1000 лежит метод химического осаждения алмаза из плазмы СВЧ-разряда. В вакуумную камеру подаётся смесь газов, которые диссоциируют в плазме, а продукты доставляются к подложке, на которой происходит рост алмаза. Для получения поликристаллов в качестве подложек используют кремний, молибден или другие стойкие к нагреву материалы. Рост монокристаллов реализуется на алмазных подложках. Стабильность условий синтеза обеспечивается на протяжении сотен часов.

Удобство и надёжность конструкции для лёгкой работы и обслуживания. Отсутствие неконтролируемого натекания из атмосферы. Большой диапазон рабочих давлений (20-500 Торр), существенно повышающий скорость роста алмаза. Полностью автоматизированный контроль и мониторинг всех параметров роста в режиме реального времени, в том числе через интернет. Стабильная плазма в широком диапазоне давлений, мощности и геометрий подложкодержателя. Широкий диапазон получаемых материалов от монокристаллического алмаза исключительного качества до поликристаллов большой площади. Однородность температуры на всем подложкодержателе, отклонение не более ±5% Подложкодержатель для роста поликристаллических пластин диаметром до 4”. «Z-mover» для роста монокристаллов с диапазоном перемещения до 10 мм и регулировкой скорости перемещения по обратной связи

Не установлено